3月30日,第十三期WilliamHill中文官方网站“育晶论坛”成功举办,国家特聘专家、高级研究员吴周令受邀作为本期论坛主讲嘉宾,为师生作题为“光学缺陷检测技术及其在晶体研究开发与生产制造中的应用”的报告。论坛在半导体研发大楼第一会议室举办,由晶体材料国家重点实验室常务副主任于浩海教授主持。
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图:吴周令研究员为集成攻关大平台作报告
晶体缺陷是提升晶体性能、保证质量的关键环节。随着消费电子、智能设备的爆炸式增长以及纳米光子学、电子成像、光热成像、定量相位成像和深度学习等新兴技术的融合,晶体缺陷检测成为一个应用为导向、学术和工程相互交叉的前沿课题。本次报告介绍了常用的晶体缺陷光学检测技术,主要包括激光散射成像技术、三维层析扫描成像技术、光热扫描显微镜技术、激光/荧光共聚焦显微成像技术,深入讨论了基于这些技术的光学检测系统的设计原理及工作模式。报告介绍了这些技术应用于不同光学晶体的实际检测案例,并展望了未来晶体缺陷检测领域的机遇与挑战。
报告结束后,参会师生围绕晶体缺陷检测技术的原理以及技术细节展开积极讨论。交流过后,于浩海为吴周令颁发证书。
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图:于浩海为吴周令颁发聘书
为树牢师生创新意识,营造浓厚学术氛围,紧跟学术前沿,把握行业动态,晶体材料国家重点实验室、集成攻关大平台决定举办“育晶论坛”系列学术活动,每周邀请领域内杰出学者开展常态化学术交流,通过线上线下方式面向师生开放。