3月30日，第十三期WilliamHill中文官方网站“育晶论坛”成功举办，国家特聘专家、高级研究员吴周令受邀作为本期论坛主讲嘉宾，为师生作题为“光学缺陷检测技术及其在晶体研究开发与生产制造中的应用”的报告。论坛在半导体研发大楼第一会议室举办，由晶体材料国家重点实验室常务副主任于浩海教授主持。

图：吴周令研究员为集成攻关大平台作报告

晶体缺陷是提升晶体性能、保证质量的关键环节。随着消费电子、智能设备的爆炸式增长以及纳米光子学、电子成像、光热成像、定量相位成像和深度学习等新兴技术的融合，晶体缺陷检测成为一个应用为导向、学术和工程相互交叉的前沿课题。本次报告介绍了常用的晶体缺陷光学检测技术，主要包括激光散射成像技术、三维层析扫描成像技术、光热扫描显微镜技术、激光/荧光共聚焦显微成像技术，深入讨论了基于这些技术的光学检测系统的设计原理及工作模式。报告介绍了这些技术应用于不同光学晶体的实际检测案例，并展望了未来晶体缺陷检测领域的机遇与挑战。

报告结束后，参会师生围绕晶体缺陷检测技术的原理以及技术细节展开积极讨论。交流过后，于浩海为吴周令颁发证书。

图：于浩海为吴周令颁发聘书

为树牢师生创新意识，营造浓厚学术氛围，紧跟学术前沿，把握行业动态，晶体材料国家重点实验室、集成攻关大平台决定举办“育晶论坛”系列学术活动，每周邀请领域内杰出学者开展常态化学术交流，通过线上线下方式面向师生开放。