主讲人：吴周令

时间：2023年3月30日（周四）下午14:00

地点：中心校区半导体研发大楼第一会议室、腾讯会议

报告摘要

晶体的缺陷是制约材料性能一个非常重要的因素，因此缺陷检测是提升晶体材料性能、保证质量的关键环节。缺陷是在晶体材料生长和加工过程中产生的，缺陷的种类和形态多种多样，对晶体的缺陷实现全面准确的评价与分析是一个挑战。本报告介绍了常用的晶体材料缺陷光学检测技术，主要包括激光散射扫描成像技术、三维层析扫描成像技术、光热扫描显微成像技术、激光/荧光共聚焦显微成像技术等。并简要介绍这些技术应用于不同光学晶体的实际检测案例。

个人简介

中科院上海光学与精密机械研究所博士，现任合肥知常光电科技有限公司董事长兼首席科学家，超光滑表面无损检测安徽省重点实验室主任。从事激光与材料作用、精密光学检测技术研究与开发工作30余年。曾任美国能源部劳伦斯-利弗莫尔国家实验室高级研究员、美国东密西根大学物理系教授兼激光物理实验室主任等职。发表学术论文120多篇，拥有国内外专利100余项，参与撰写学术专著一部。